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Home製品・サービス情報科学機器>BihurCrystal社製 原子層堆積装置 ALI System

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BihurCrystal 社 原子層堆積装置
ALI システム(Atomic Layer Injection System)
結晶材料 / グラフェン / ナノ粒子材料 / 原子層堆積装置 ALI System


ALIシステム(Atomic Layer Injection System)とは


ALIは、溶液またはコロイド懸濁液から高分子またはナノ粒子を堆積させるための技術です。パルス弁を使用して、溶液を不活性キャリアガスと共にUHVチャンバーに注入し、スプレーを形成します。
溶媒は微小液滴から蒸発します。
溶質粒子は解放され、劣化することなくサンプル表面に到達します。堆積によりサンプル上に溶質の薄い汚染物質のない層ができ、UHV環境でのXPS、ARPES、SPMによる特性評価の準備が整います。
ALIソフトウェアおよび制御装置は、スプレープロセスを制御および監視するためのインターフェイスを提供します。
キャリアガスの圧力と同様に、パルス周波数と接続時間を調整することによって、性能を最適化することが可能です。
UHVシステムを過圧や汚染から保護するための安全機能が組み込まれています。圧力はすぐに正常範囲に戻り、ALIシステムはどのUHVチャンバーでも操作可能です。


特長


制御された原子層の堆積
熱蒸発に耐性がない敏感な材料に最適
キャリア液注入によるコールドプロセス
熱分解なし
ポリマーやマクロ分子に最適
ナノ粒子の堆積
信頼性が高く、簡易なプロセス制御
既存のUHVシステムへの簡易な接続
任意の向きに取り付け可能


価格

製品名 税別価格 型式 データシート
ALI システム お問合せ ALI-1000


参考情報


Carbon Nanotubes on Au (111)
Beta-carotene on Au (111), Courtesy of F. Himpsel and C. Rogero (NanoPhysics Lab, Centro de Física de Materiales CSIC-UPV/EHU, San Sebastián, Spain)
CuPC on Ag (111)
Au nanoparticles on SiO2

お問い合わせ 試薬部: biosupport@filgen.jp P.052-624-4388 www.filgen.jp
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