製品情報・受託サービス情報 What's New!　製品・サービス情報　ダウンロード　e-mail_news登録　　　　 会社情報 概要　ミッション　アクセス　リクルート　連絡先　ビジネスパートナー　ライセンス　個人情報保護方針 Home＞製品・サービス情報＞試薬・材料・消耗品＞Alpha Graphene社製品 CVD グラフェン 製品・サービス情報 　　 受託サービス サービス別ラインナップ 　　 科学機器 製品別ラインナップ メーカー別ラインナップ 　　 試薬・材料・消耗品 製品別ラインナップ メーカー別ラインナップ ・ Alpha Graphene 　　 ソフトウェア 製品別ラインナップ メーカー別ラインナップ Alpha Graphene 社製品 CVD グラフェン 特長 / アプリケーション / 製品ラインアップ / カスタムサービス Alpha Graphene 社は、CVD グラフェンの製造に関する専門メーカーです。特許取得済みの真空転写プロセスによる高品質の CVD グラフェンを販売しています。また、ユーザーより提供される任意の基板へのグラフェン転写サービスも提供しています。 特長 特許取得済みの真空転写技術： 真空条件でのグラフェンと基板の界面における不純物の除去 原子レベルの自発的転写プロセス 物理的損傷と化学ドーピングを最小限に抑えたグラフェン転写 論文：SCI paper, Carbon, 93, 2015, Graphene transfer in vacuum yielding a high quality graphene 特許：10-1899224（韓国）, PCT/KR2015/000085 従来の課題： 空気中の水分やプロセス中の不純物は、グラフェンと基板の接着を阻害します。 グラフェンの物理的損傷と化学ドーピング 左：通常の原子構造、右：損傷した原子構造 真空転写と従来の転写技術によるグラフェンの品質比較： 真空転写（Alpha Graphene社） ウェット転写 乾式転写 アプリケーション 電子デバイス：電子移動度の向上 光検出器：光応答性の向上 性能の均一性の確保 長期的な動作信頼性の向上 製品ラインアップ 単層 CVD グラフェン（SiO2/Si ウェハ）： グラフェン 基板 容量 税別価格 ウェハ ウェハ厚み 酸化膜 酸化膜厚 サイズ 単層 シリコン 525μm SiO2 90 or 300nm 10x10mm 30枚入 お問合せ 単層 シリコン 525μm SiO2 90 or 300nm 20x20mm 10枚入 お問合せ 単層 シリコン 525μm SiO2 90 or 300nm 25x25mm 10枚入 お問合せ 単層 シリコン 275μm SiO2 90 or 300nm 2インチ 5枚入 お問合せ 単層 シリコン 525μm SiO2 90 or 300nm 4インチ 1枚 お問合せ 単層 シリコン 625μm SiO2 90 or 300nm 6インチ 1枚 お問合せ 多重転写 CVD グラフェン： 真空中での多重転写プロセスによる多層グラフェン。 すでに転写されたグラフェンの上にグラフェン真空転写プロセスを繰り返します。 このプロセスを繰り返すことで、必要な層数の大面積多層グラフェンを作製できます。 ＜複数の転写プロセスで製造された多層 CVD グラフェンの特性の比較＞ 基板サイズ 層数 税別価格 6-inch 以下のウェハ 2層以上 お問合せ カスタムサービス CVD グラフェン転写サービス： ユーザーより提供される任意の基板にグラフェン真空転写プロセスを実施します。 基板のサイズは、4 から 6 インチサイズまでになります。 基板表面のパターン条件によっては、ご対応できない可能性があります。 転写サービスをご依頼の際は、以下までお問合せください。 お問合せ先： フィルジェン株式会社　試薬機器部 Tel 052-624-4388 E-mail 【お問合せ】 試薬機器部 Phone 052-624-4388 https://filgen.jp/ Copyright (C) 2004-2024 Filgen, Inc.　All Rights Reserved.