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Home製品・サービス情報試薬・材料・消耗品>Cellulose Lab社製 ナノセルロース

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Cellulose Lab社製品
ナノセルロース
Cellulose Lab社(カナダ)は、セルロースナノファイバー(CNF)とセルロースナノクリスタル(CNC)を製造・販売しています。様々な修飾基を有する製品を、乾燥粉末およびスラリーの状態で提供します。

セルロースナノファイバー(CNF)は、ミクロフィブリル化セルロース(MFC)やナノフィブリル化セルロース(NFC)とも呼ばれており、その直径は10~80nm、長さは数ミクロン程度です。CNFはセルロースナノクリスタル(CNC)とは異なり、非晶質部分と結晶部分の両方を有します。CNFは他の繊維と比較して、柔軟性が高く、より長く、表面積が大きいです。そのため、以下に示す様な広範囲における応用が期待されます。

アプリケーション例:
 食品添加物、生分解性食品包装、顔料、選択的送達/分離、細胞工学、ナノコンポジット、その他医療および医薬品用途など

【特長】
原材料: 綿パルプ、漂白硫酸塩軟材パルプ、漂白硫酸塩硬木パルプ
調整: 高圧ホモジナイザー、または超微粉砕機を用いたセルロースのナノフィブリル化
形態: 水性ゲル(固形分含量:0.5~5%)、白色粉末、エアロゲル
タイプ: 非改変CNF、カチオン化CNF、カルボキシメチル化CNF、TEMPO化CNF
分散: CNF水性ゲルの強い凝集はなく、凍結乾燥または噴霧乾燥後に水に再分散可能
A. TEMPO化CNF
  濃度:0.51%

B. カチオン化CNF
  DS=0.717
  濃度:0.93%

C. カルボキシメチル化CNF
  DS=0.835
  左濃度:0.7%
  右濃度:0.29%

D. 非改変CNF
  濃度:1.34%
 CNF-TEM

【価格・ラインナップ】

製品名 サイズ、修飾基 仕様 カタログ#
スーパーマスコロイダー調製 セルロースナノフィブリル 幅:30-80nm
長さ:最大数百ミクロン
表面基:ヒドロキシル 
1-3% solids in water CNF-Slurry-SMC
高圧ホモジナイザー調製 セルロースナノフィブリル 幅:10-60nm
長さ:800-3000nm
表面基:ヒドロキシル 
0.5-8% solids in water CNF-Slurry-HPH
セルロースナノフィブリル, 凍結乾燥 幅:30-80nm
長さ:最大数百ミクロン
表面基:ヒドロキシル 
Dry CNF-FD
カルボキシメチル化セルロースナノフィブリル 幅:10-13nm
長さ:1000-3000nm
表面基:カルボキシメチル
0.5%-5% solids in water CNF-CM-Slurry
カルボキシメチル化セルロースナノフィブリル,
噴霧乾燥, パルプ材料
幅:10-13nm
長さ:1000-3000nm
表面基:カルボキシメチル
Dry CNF-CM-SD-P
カルボキシメチル化セルロースナノフィブリル,
噴霧乾燥, コットン材料
幅:10-13nm
長さ:1000-3000nm
表面基:カルボキシメチル
Dry CNF-CM-SD-C
カルボキシメチル化セルロースナノフィブリル,
噴霧乾燥, サイザル材料
幅:10-13nm
長さ:1000-3000nm
表面基:カルボキシメチル
Dry CNF-CM-SD-S
カチオン性型セルロースナノフィブリル 幅:50nm
長さ:最大数百ミクロン
表面基:四級アンモニウム
0.5%-5% solids in water CNF-Cationic
TEMPO(アニオン性型)セルロースナノフィブリルパウダー 幅:50nm
長さ:0.5-80μm
表面基:カルボキシル
Dry CNF-TEMPO-FD
TEMPO(アニオン性型)セルロースナノフィブリルスラリー 幅:20-50nm
長さ:0.5-80μm
表面基:カルボキシル
0.5%-1% solids in water CNF-TEMPO-S
過ヨウ素酸塩酸化セルロースナノフィブリル 幅:10-50nm
長さ:800-1500nm
表面基:ジアルデヒド
0.3-1% in water CNF-PO
疎水性セルロースナノフィブリル、有機酸化水分解 幅:10-50nm
長さ:800-1500nm
表面基:エステル
0.5-1% in DMAC CNF-Hydrophobic
リグニンコートセルロースナノフィブリルスラリー 幅:10-50nm
長さ:800-1500nm
表面基:エステル、リグニン
0.5-1% in DMAC CNF-Lignin
※お手数ですが、価格は都度お問合せください。お問合せの際、スラリー品も乾燥重量でのお問合せをお願いします。
※注文単位は、乾燥重量です。(以下、購入例)

(購入例)
 品番:CNF-Slurry(仕様:slurry, 3.0% solids)を100g購入時



セルロースナノクリスタル(CNC)

セルロースナノクリスタル(CNC)は、一部の石油化学製品の代替品として、他の高性能ナノ材料よりも安価であり、注目されています。CNCの興味深い特性により、そのアプリケーションは多岐にわたります。

アプリケーション例:
 流出油の洗浄、エンジニアリング、医薬品、容器の代用品、生分解性の食品包装など

【特長】

原材料: パルプ、綿、漂白クラフトパルプ(軟材パルプ、硬木パルプ)、サイザル、チュニッシュセルロース(海洋バイオマス)
調製: 酸性加水分解
形態: 青色もしくは茶色の懸濁液、または粉末
タイプ: CNC、化学修飾CNC(TEMPO媒介酸化(カルボキシル基量:0.3-2mmol/g)、カチオン化、カルボキシル化、ポリマーグラフト化)
粒度分布: パルプまたはコットン CNC:幅10-20nm、長さ:50-400nm
チュニッシュ CNC:幅10-20nm、長さ:500nmから2μm(アスペクト比:~75)
結晶指数: >70%
分散: CNC懸濁液の強い凝集はなく、超音波処理で乾燥後に水に再分散可能。(CNC-OAは、有機溶剤に分散可能)



懸濁CNC TEM
懸濁CNC

【価格・ラインナップ】
製品名 サイズ、修飾基 仕様 カタログ#
セルロースナノクリスタル, 酸加水分解 幅:5-20nm
長さ:100-250nm
表面基:ヒドロキシル、スルホン酸
slurry, 0.5-6% solids in water CNC-Slurry
被のう類セルロースナノクリスタル,
高アスペクト比海洋バイオマス、硫酸加水分解
幅:5-20nm
長さ:500nm-2μm
表面基:ヒドロキシル、スルホン酸
0.5-2% solids in water CNC-Tunicate
セルロースナノクリスタル, 凍結乾燥 幅:5-20nm
長さ:100-250nm
表面基:ヒドロキシル、スルホン酸
Dry CNC-FD
セルロースナノクリスタル, 噴霧乾燥 幅:5-20nm
長さ:140-200nm
表面基:ヒドロキシル、スルホン酸
Dry CNC-SD
セルロースナノクリスタル、硫酸加水分解、高スルホン酸基含有 幅:5-20nm
長さ:100-250nm
表面基:ヒドロキシル、スルホン酸
slurry, 0.5-10% solid in water CNC-Slurry-HS
セルロースナノクリスタル、硫酸加水分解、高スルホン酸基含有、噴霧乾燥 幅:5-20nm
長さ:140-200nm
表面基:ヒドロキシル、スルホン酸
Dry CNC-HS-SD
セルロースナノクリスタル、硫酸加水分解、高スルホン酸基含有、凍結乾燥 幅:5-20nm
長さ:100-250nm
表面基:ヒドロキシル、スルホン酸
Dry CNC-HS-FD
脱硫酸化セルロースナノクリスタル 幅:5-20nm
長さ:140-200nm
表面基:ヒドロキシル
0.5-8% in water CNC-DS
脱硫酸化セルロースナノクリスタル、凍結乾燥 幅:5-20nm
長さ:140-200nm
表面基:ヒドロキシル
Dry CNC-DS-FD
脱硫酸化セルロースナノクリスタル、噴霧乾燥 幅:5-20nm
長さ:140-200nm
表面基:ヒドロキシル
Dry CNC-DS-SD
カルボキシメチル化セルロースナノクリスタル,
噴霧乾燥, パルプ材料
幅:5-20nm
長さ:140-200nm
表面基:カルボキシルメチル、ヒドロキシル
Dry CNC-CM-SD
カチオン型セルロースナノクリスタル 幅:5-20nm
長さ:140-200nm
表面基:四級アンモニウム、ヒドロキシル
0.5%-2%, solids in water CNC-Cationic
TEMPO(アニオン性型)セルロースナノクリスタル
カルボキシル基量(0.15-0.6mmol/g)
幅:5-20nm
長さ:140-200nm
表面基:カルボキシル、ヒドロキシル
0.5%-2%, solids in water CNC-TEMPO-Low
TEMPO(アニオン性型)セルロースナノクリスタル
カルボキシル基量(0.8-1.2mmol/g)
幅:5-20nm
長さ:140-200nm
表面基:カルボキシル、ヒドロキシル
0.5%-2%, solids in water CNC-TEMPO-Midium
TEMPO(アニオン性型)セルロースナノクリスタル
カルボキシル基量(≧1.5mmol/g)
幅:5-20nm
長さ:140-200nm
表面基:カルボキシル、ヒドロキシル
0.5%-2%, solids in water CNC-TEMPO-High
セルロースナノクリスタル、リン酸加水分解 幅:5-30nm
長さ:50-300nm
表面基:リン酸、ヒドロキシル
0.5-1% in water CNC-PA
エポキシグラフト結合セルロースナノクリスタル 幅:5-20nm
長さ:140-200nm
表面基:エポキシ、ヒドロキシル
1-5% in water CNC-EP
セルロースナノクリスタル、有機酸加水分解 幅:100nm以下
長さ:100nm以下
表面基:エステル、ヒドロキシル
0.5-1% in DMAC or water CNC-OA
※お手数ですが、価格は都度お問合せください。お問合せの際、スラリー品も乾燥重量でのお問合せをお願いいたします。
※注文単位は、乾燥重量です。

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