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General Graphene 社製品
グラフェン材料
General Graphene 社について / グラフェンとその応用 / CVDグラフェンフィルム / グラフェンフォーム / カーボン電極


General Graphene 社について


化学気相成長(CVD)法によって、グラフェンおよびカーボン材料を産業規模で製造する企業。
テネシー州ノックスビルの自社工場で全製品を製造しており、取得済みまたは出願中の特許は、25 件以上にのぼる。
独自のロール to ロール大気圧 CVD (R2R APCVD) システム - GG3.0 により、年間最大 100,000m2 のCVD グラフェンフィルムを製造可能。


グラフェンとその応用


グラフェンとその応用に関する記事を General Graphene 社が公開しています。
Knowledge Center
以下では、いくつかの記事をピックアップしてご紹介致します。

◆Graphene - The Wonder Material That Leaves People Wondering
 グラフェンについての概説
◆What is CVD Graphene?
 CVD グラフェンについての概説
◆Graophene at the Nanoscale and Beyond
 熱分解炭素膜についての概説
◆CVD Graphene Potential in Sensors
 CVD グラフェンのセンサー用途(ひずみセンサー、ガスセンサー、バイオセンサーなど)の紹介
◆CVD Graphene Biosensors White Paper
 CVD グラフェンのバイオセンサー用途について分析した資料


CVD グラフェンフィルム(CVD Graphene Films)


General Graphene 社は、独自のロール to ロール CVD システムを使用して、市場よりも低価格の CVD グラフェンフィルムを産業規模で製造しています。このシステムでは、触媒組成、前処理、炭化水素ガス、成長温度、加熱時間などの要素を慎重に調整することで、グラフェンのグレインサイズ、層数、欠陥密度を制御することができます。厳格な品質管理によって品質の一貫性が維持されており、大面積(最大 20cm x 28cm)での提供が可能です。

【単層CVDグラフェンの製品仕様】
成長方法 CVD法
品質管理 ラマン、SEM、光学顕微鏡
透過率 ~97.7%
グラフェンの厚さ 3.45 Å
Cu 結晶配向 主に Cu(111)
Cu 箔の厚さ 20 μm
Cu 結晶サイズ(平均値) cm スケール
グラフェンのグレインサイズ(平均値) ~80 μm
多層比率 <5 %
I2D/IG(平均値、転写後) >1.6
ID/IG(平均値、転写後) <0.05
2D バンドのピーク半値幅(転写後) ~35 cm-1
シート抵抗(SiO2/Si ウェハ-上) 500 ± 70Ω/sq
電子移動度(転写処理に依存) >3000 cm2/Vs
外観 透明の薄膜

【ラインナップと価格】
製品名 層数 サイズ 容量 税別価格 型式
CVD Graphene Films on Cu

製品仕様書
ハンドリングガイド
Monolayer 5cm x 5cm 1枚 お問合せ CVCA155NN
8cm x 8cm 1枚 お問合せ CVCA188NN
15cm x 15cm 1枚 お問合せ CVCA11515NN
20cm x 28cm* 1枚 お問合せ CVCA12028NN
Bilayer
(2-layer)
5cm x 5cm 1枚 お問合せ CVCA255NN
8cm x 8cm 1枚 お問合せ CVCA288NN
Trilayer
(3-layer)
5cm x 5cm 1枚 お問合せ CVCA355NN
8cm x 8cm 1枚 お問合せ CVCA388NN
Monolayer 4inch 1枚 お問合せ CVW04S
6inch 1枚 お問合せ CVW06S
Monolayer 4inch 1枚 お問合せ CVW04O
6inch 1枚 お問合せ CVW06O
CVD Graphene Film in Cu
with PMMA Coating

製品仕様書
Monolayer 5cm x 5cm 1枚 お問合せ CVCA155YN
8cm x 8cm 1枚 お問合せ CVCA188YN
15cm x 15cm 1枚 お問合せ CVCA11515YN
Bilayer
(2-layer)
5cm x 5cm 1枚 お問合せ CVCA255YN
8cm x 8cm 1枚 お問合せ CVCA288YN
Trilayer
(3-layer)
5cm x 5cm 1枚 お問合せ CVCA355YN
8cm x 8cm 1枚 お問合せ CVCA388YN
CVD Graphene Film
on SiO2/Si Wager

製品仕様書
Monolayer 4inch 1枚 お問合せ CVW04O
6inch (custom) 1枚 お問合せ CVW06O
CVD Graphene Film
on Si Wafer
Monolayer 4inch (custom) 1枚 お問合せ CVW045
6inch (custom) 1枚 お問合せ CVW065
*20cm 幅の両端 2cm 程度は、多層グラフェンの割合が高くなっています。


グラフェンフォーム(3D Graphene Foam)


General Graphene 社の 3D Graphene Foam では、導電性グラフェンシートが相互接続し、多孔性の 3 次元ネットワークを形成しています。ポリマーや接着剤を一切含まない自立型のグラフェンフォームであり、細胞培養の足場材料としても利用可能です。ご希望に応じて、6 ウェルプレートやペトリ皿に埋め込まれた状態でご提供いたします。また、触媒のニッケルフォームをエッチングせずに残した状態でのご提供も可能です。

製品仕様書     ⇒ハンドリングガイド     ⇒3D細胞培養への応用    ⇒開封方法

【製品仕様】
成長方法 CVD法
品質管理 ラマン、SEM、光学顕微鏡
寸法 3cm x 3cm x 0.16cm
成長基材 ニッケルフォーム
組成(EDS) >99% C
密度 ~27 ± 7 mg/cm3
セルサイズ 450 ± 25 μm
細孔径 150 ± 50 μm
表面積 <10 m2/g
導電率 3 x 105 S/m
降伏応力(0.5%ひずみ) 5 ± 1 kPa
圧縮弾性率 100 ± 40 kPa
外観 自立したフォーム

【ラインナップと価格】
製品名 サイズ 仕様 容量 税別価格 型式
3D Graphene Foam 3cm x 3cm x 0.16cm Ni-etched 1枚 お問合せ GFO33EN16FS
With Ni foam 1枚 お問合せ GFO33NN16FS


カーボン電極(C3 Electrode)


従来の CVD 法では、炭素材料の成長は炭素源の分離・分解の触媒となる特定の金属基板に限定されていました。General Graphene社は、独自の CVD 合成技術により熱分解炭素膜をアルミナ基板上に直接堆積することで、電気化学測定用のカーボン電極を製造しています。作用電極と対極は純粋な非結晶性炭素で構成されているため、バインダーなどの添加剤を含む従来のスクリーン印刷カーボン電極と比較して、様々な環境において非常に感度が高く、安定しており、再現性があります。

製品仕様書

【製品仕様】
成長方法 CVD法
品質管理 ラマン、SEM、4点プローブ
寸法 10mm x 30mm x 0.5mm
基材 アルミナ
組成(EDS) >99% C
カーボンの厚さ 2.3 ± 0.2 μm
シート抵抗 5 ± 0.5 Ω/sq
表面積* 0.46 ± 0.02
導電率 2 x 105 S/m
化学的安定性** バインダーを含まず、ほとんどの溶媒に対して高い安定性
作用電極の幾何学的面積 12.56 mm2
外観 純粋なカーボン
参照電極 Ag/AgCl
*作用電極の幾何学的面積(平面面積)に対する、表面の凹凸による追加の表面積の割合
**C3 Electrode は、多くの溶媒に適合性がありますが、誘導体の溶媒安定性は限られており、主に水性環境に適しています。その他の溶媒については、ご相談ください。

【ラインナップと価格】
製品名 容量 税別価格 型式
C3 Electrode 10枚入り お問合せ C3EQ10
20枚入り お問合せ C3EQ20

【お問合せ】
試薬機器部
Phone 052-624-4388

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