製品情報・受託サービス情報 What's New!　製品・サービス情報　ダウンロード　e-mail_news登録　　　 会社情報 概要　ミッション　アクセス　リクルート　連絡先　ビジネスパートナー　ライセンス　個人情報保護方針 Home＞製品・サービス情報＞科学機器＞オスミウム・プラズマコーター English 製品・サービス情報 　　 受託サービス サービス別ラインナップ 　　 科学機器 製品別ラインナップ メーカー別ラインナップ + Filgen ・ オスミウム・プラズマコーター - 製品情報 - 製品ラインナップ - オプション - テクニカルデータ - 受託サービス - メンテナンス 　　 試薬・材料・消耗品 製品別ラインナップ メーカー別ラインナップ 　　 バイオインフォマティクス ソフトウェア 製品別ラインナップ メーカー別ラインナップ 電子顕微鏡試料用　導電性薄膜作製装置 オスミウム・プラズマコーター / 製品情報 製品情報/製品ラインナップ/オプション/テクニカルデータ/受託サービス/メンテナンス 「直流グロー放電による負グロー相領域内でのプラズマ製膜法」を用いた、主にSEM試料用の導電性薄膜作製装置です。 特長 操作性に関して オスミウム薄膜に関して プラズマ重合膜に関して （ナフタレンによるハイドロカーボン膜） ● 全自動で操作が簡単 （膜厚を設定してスタートボタンを押すだけ） ● 四酸化オスミウム昇華室 の着脱が可能 密封構造で、冷凍保存も可能。 ● 四酸化オスミウム/ナフタレン の残量が確認できる （残量確認小窓付き) ● 製膜時間が短い（数nm/数秒） ● インターロック機構により ハイレベルな安全性を確保 ● 粒状性がない オスミウム薄膜は非晶質 ● 回り込みが良い 四酸化オスミウムをガス化してから製膜 ● 熱ダメージがない 熱をかける工程がなく、常温で製膜 ● 電子線ダメージがない 金属オスミウムの融点は2700℃と非常に高い ● コンタミネーションがない オスミウムイオン雰囲気内で製膜 ● 強靭性 FIBで使用するガリウムイオンに 耐えうる強靭な膜です。 ● 耐熱性 ● 絶縁性 ● 粒状性がない ハイドロカーボンのプラズマ重合膜は非晶質 ● 回り込みがよい ナフタレンをガス化してから製膜 ● 熱ダメージがない 熱をかける工程がなく、常温で製膜 ● 電子線ダメージがない 原理 陽極板と陰極板を設置した小容量のガス反応容器に、少量の四酸化オスミウム（OsO4）ガス/ナフタレンガス（C10H18）を 導入します。その後、ガス反応容器内を希薄な昇華ガス圧にしてグロー放電させると、電極間は瞬時にしてプラズマ状態 になり、陽光柱と負グロー相に分かれて青紫色に発光します。この時、陰極板上の負グロー相領域内に置いた試料表面 には、イオン化分子が瞬時に付着堆積して、オスミウム金属薄膜/プラズマ重合膜（ナフタレン）が形成されます。 オスミウム金属薄膜を走査型電子顕微鏡の試料表面に形成させて、検鏡すると、極めて鮮明な像が得られます。 アプリケーション 導電性超薄膜に関して ●FESEMによる絶縁物の 　 超微細構造観察 ●ESCA、オージェ電子分光装置による 　 絶縁物の極表面情報の定量分析 ●TEM試料の導電性補強 ●AFM試料の静電気防止 ●STM試料の帯電防止 ●エッチング（混合ガス方式のみ） オスミウム薄膜に関して ●SEM試料への導電性薄膜 ●SEM、TEM試料のコンタミ防止 ●AFM試料への保護膜 ●SPM試料への導電性保護膜 ●SPM用カンチレバーの保護膜 プラズマ重合膜に関して ●FIB試料用保護膜 ●包埋樹脂と試料との剥離防止 ●フッ素樹脂へのコーティング （ナフタレン-オスミウムハイブリッドコーティング） ●TEMグリッド用支持膜 ●TEM用超薄切片のドリフト防止 ⇒ ナフタレン- オスミウムハイブリッドコート の詳細はこちらをクリック ⇒ プラズマ重合膜（ナフタレン）は、 OPC80Tにて製膜可能です。 ナフタレンによる プラズマ重合膜支持膜（TEM像） Direct Magnification：×100,000 Coating Material：Naphthalene Coating Thickness：10nm フルオート操作のメリット 　オスミウム・プラズマコーター（現行タイプ）は操作がフルオートです。 　試料ステージに試料を載せ、ガス反応容器を閉めて膜厚を設定したあとはスタートボタンを押すだけで製膜できます。 　弊社も旧タイプはマニュアルでした。 操作性の比較 フルオート （現行タイプ） マニュアル （旧タイプ） 準備 ガス反応容器内に試料を入れます。 コーティング 真空引き スタートボタンを押すと、自動で製膜（コーティング） を行います。 自動コーティングの手順 　①「真空引き」 　②「ガス導入」 　③「ガス流量調整」 　④「膜厚制御（コーティング）」 　⑤「ガスの再排気」 膜圧も nm単位 で設定できるため、簡単に 制御することが可能です。 インターロック機構があるため、「ガスの再排気」 を行わない状態でガス反応容器を開放すること ができません。 規定の真空度までガス反応容器内の 真空引きを行います。 真空度は目視で確認します。 オスミウム ガス導入 オスミウムガスをバルブを回転させて 導入します。 オスミウム ガス流量調整 回転式のマニュアルバルブにより、 オスミウムガスの真空度或いは 他の計器類を確認しながら調整します。 膜厚制御 （コーティング） 放電の電流値と時間の相関によって膜厚が 決まるため、回転式のマニュアルバルブを 調整しながら電流値を調整します。 オスミウム ガスの再排気 オスミウムガスの導入をバルブで止め、 ガス反応容器内を回転式のマニュアルバルブ を全開にして排気を行います。 インターロック機構がないため、ガスの再排気を 行わなくてもガス反応容器を開放することが できる恐れがあります。 昇華室について ①フルオープン 　（本体への装着時） ・・・・・ 染色ガスが電磁弁の手前まで充満しています。 （取り外し不可） ②ハーフクローズ 　（配管内ガス排気時） ・・・・・ ガス導入ツマミをケガキ線まで回し、電磁弁を開くことで 染色ガス導入経路の染色ガスを排気することができます。 （取り外し不可） ③フルクローズ 　（着脱可能状態） ・・・・・ ガス導入ツマミを完全に回り切ることで、オスミウム昇華室は、 昇華室内が密閉の状態で安全に真空電子染色装置から 取り外すことができます。 ①フルオープン 　（本体への装着時） ②ハーフクローズ 　（配管内ガス排気時） ③フルクローズ 　（着脱可能状態） 密閉状態でオスミウム・プラズマコーターの着脱が可能なオスミウム昇華室です。 ・四酸化オスミウムアンプル（OsO4）を中に入れ、昇華室内でアンプルを割断することが可能です。 ・フルクローズにすることで着脱が可能となり、冷凍保存できます。 ・未使用時のオスミウム昇華によるロスを最小限に防ぐこともできます。 ・四酸化オスミウムアンプル（OsO4）は、100mg入りと500mg入りの2種類があります。 四酸化オスミウムアンプル （OsO4） オスミウム昇華室 型式 OPC-ORV 寸法 70(W)×45(D)×120(H)mm 質量 約 480g お問い合わせ　Scientific Instruments: si-support@filgen.jp　P.052-624-4388 https://filgen.jp/ Copyright (C) 2004-2018　Filgen, Inc.　All Rights Reserved.