製品・サービス情報
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電子顕微鏡試料用 導電性薄膜作製装置
オスミウム・プラズマコーター |
「直流グロー放電による負グロー相領域内でのプラズマ製膜法」を用いた、主にSEM試料用の導電性薄膜作製装置です。
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 |
オスミウム超薄膜―プラズマ重合膜(ナフタレン)交互積層膜の断面TEM像
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オスミウム超薄膜とプラズマ重合膜を交互に製膜を行い、膜厚の再現性を確認致しました。
■試料:エポキシブロック サイズ:10mmφ×3mmt
条件1
①低電流方式にてエポキシブロックにナフタレンコート、
オスミウムコートを交互に行う。
各設定膜厚は、以下の通り
ナフタレン 10nm 6層
オスミウム 1nm 5層
②エポキシブロックをエポキシ樹脂にて再包埋
③断面をウルトラミクロトームにて薄切したのちTEM観察 |
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条件2
①混合ガス方式にてエポキシブロックにナフタレンコート、
オスミウムコートを交互に行う。
各設定膜厚は、以下の通り
ナフタレン 10nm 7層
オスミウム 1nm 6層 (但し、4層目のみ混合ガス無しで約4秒放電)
②エポキシブロックをエポキシ樹脂にて再包埋
③断面をウルトラミクロトームにて薄切したのちTEM観察 |
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